Sau nhiều năm chịu các lệnh hạn chế xuất khẩu từ Mỹ và Hà Lan, Trung Quốc được cho là đang chuẩn bị đưa những máy quang khắc cực tím sâu (DUV) đầu tiên do nước này phát triển vào giai đoạn thương mại.

Theo The Information, một liên minh gồm nhiều doanh nghiệp và nhóm nghiên cứu trong nước, trong đó có startup Shanghai Yuliangsheng Technology được nhà nước hỗ trợ, đang sản xuất dòng máy DUV immersion (DUV nhúng). Kế hoạch hiện tại là bàn giao khoảng 5 hệ thống trong năm nay và tăng lên 20 hệ thống trong năm sau.

Những khách hàng đầu tiên

Các máy DUV đầu tiên dự kiến sẽ được cung cấp cho ba nhà sản xuất bán dẫn lớn của Trung Quốc gồm SMIC, Hua Hong Semiconductor và CXMT.

Đây đều là những doanh nghiệp bị ảnh hưởng bởi các quy định kiểm soát xuất khẩu, khiến việc tiếp cận các hệ thống quang khắc tiên tiến của ASML trở nên ngày càng khó khăn. Chính vì vậy, việc phát triển thiết bị trong nước được xem là bước đi quan trọng nhằm giảm phụ thuộc vào nguồn cung bên ngoài.

Theo nguồn tin, SMIC đã bắt đầu thử nghiệm nguyên mẫu DUV immersion từ tháng 9/2025. Phần lớn linh kiện được sản xuất trong nước, dù một số bộ phận quan trọng vẫn phải nhập khẩu từ Nhật Bản. Chuỗi cung ứng nội địa chưa hoàn thiện cũng là nguyên nhân khiến sản lượng năm đầu còn khá hạn chế.

DUV vẫn đóng vai trò quan trọng trong sản xuất chip

Máy quang khắc là thiết bị cốt lõi trong quy trình sản xuất bán dẫn, có nhiệm vụ truyền các mẫu mạch điện lên tấm wafer silicon.

So với công nghệ EUV, máy DUV immersion có thể sản xuất chip ở tiến trình 28nm chỉ với một lần phơi sáng, đồng thời vẫn có khả năng tiếp cận các tiến trình khoảng 7nm thông qua kỹ thuật multi-patterning. Tuy nhiên, phương pháp này làm tăng số lượng công đoạn sản xuất, giảm tỷ lệ thành phẩm và đòi hỏi độ chính xác cao hơn.

Trong khi đó, ngành công nghiệp bán dẫn toàn cầu đang dần chuyển sang EUV, giúp giảm số lần phơi sáng và cải thiện hiệu quả sản xuất đối với các chip tiên tiến.

Khoảng cách với ASML vẫn còn rất lớn

Hiện nay, ASML vẫn là doanh nghiệp duy nhất trên thế giới cung cấp máy quang khắc EUV thương mại và gần như thống trị thị trường thiết bị quang khắc cao cấp.

Các hệ thống EUV có giá lên tới 250 triệu USD mỗi máy và đang được sử dụng để sản xuất các bộ vi xử lý tiên tiến cho các công ty như NVIDIA, AMD, cũng như các nhà gia công chip hàng đầu như TSMC, Samsung và Intel.

Trong khi đó, các chuyên gia nhận định Trung Quốc vẫn còn nhiều thách thức trước khi có thể cạnh tranh trực tiếp với ASML.

Theo AI Futures Project, việc phát triển thành công nguyên mẫu mới chỉ là bước đầu. Để một hệ thống quang khắc đủ điều kiện vận hành trong dây chuyền sản xuất hàng loạt, quá trình kiểm định và tối ưu có thể kéo dài nhiều tháng hoặc nhiều năm. Tổ chức này cũng cho rằng Trung Quốc khó có thể sản xuất máy DUV immersion ở quy mô thương mại trước năm 2035.

Cuộc đua không chỉ nằm ở con chip

Việc Trung Quốc phát triển máy DUV cho thấy cuộc cạnh tranh trong ngành bán dẫn đang mở rộng từ thiết kế và sản xuất chip sang thiết bị chế tạo bán dẫn.

Dù vẫn còn khoảng cách đáng kể so với ASML về công nghệ và năng lực sản xuất, những bước tiến này phản ánh quyết tâm của Trung Quốc trong việc xây dựng chuỗi cung ứng bán dẫn tự chủ. Trong bối cảnh các biện pháp kiểm soát xuất khẩu ngày càng siết chặt, khả năng làm chủ thiết bị quang khắc sẽ trở thành một trong những yếu tố quyết định năng lực cạnh tranh của ngành bán dẫn trong thập kỷ tới.